3M חוברת לחברות AVNTEC ו- BRANSON לצורך השקת פתרון בכנס חגיגי

לראשונה בישראל, חברו שלוש חברות ענק בינלאומיות בשיתוף פעולה ייחודי מסוגו למתן פתרון כולל לניקוי אופטימלי של רכיבים טכנולוגיים בתחומי האלקטרוניקה, מכניקה ואופטיקה. חשיפת הפתרון בפני אנשי התעשייה תתקיים בכנס השקה חגיגי שיתקיים בתאריך 20 ביוני 2006.



פתרון הניקוי מוצג על ידי שלוש חברות בינלאומיות: חברת3M , יצרנית חומרי HFE , חברת AVNTEC המייצרת הידרוקרבונים לתהליךCO-SOLVENT וחברת BRANSON יצרנית מכונות ניקוי. מיזם ייחודי זה, מציע פתרון כולל המשלב תהליך ניקוי יעיל וחסכוני, ידידותי לסביבה, ובטיחותי. שילוב הפתרון נעשה תוך התחשבות בהתאמת חומר הניקוי לרכיב הניקוי ולמכונה בהתאם לנפח הייצור.



המיזם ייחשף לראשונה בכנס מיוחד שיתקיים בחודש יוני בת"א, הכנס יכלול פאנל של מומחים מהארץ ומחו"ל, ונציגי המשרד לאיכות הסביבה. הכנס מיועד לטכנולוגים, מנהלי בקרת איכות, מנהלי ייצור ומנהלי רכש.



הכנס יתקיים ביום שלישי, 20 ביוני 2006, פריים כחול, גן אורנים, ת"א, החל מהשעה 8:30. לפרטים והרשמה 09-9615060



בתכנית:



  • הצגת הפתרונות הייחודיים לניקוי על בסיס כימיקלים.



  • שיפור וייעול תהליכי ניקוי בארגון בהתאמה לסטנדרטים המחמירים של איכות הסביבה בארץ ובעולם.



  • דיון פתוח עם מומחים מהארץ ובעולם למתן מענה מיידי לאתגרים וסוגיות



  • הצגת מכונות ניקוי מהדור החדש, חסכוניות בחומר, וידידותיות למשתמש.


אולי יעניין אותך

מתחם LAGO חתונה מעוצבת על ידי קארין אוסמו- צילום מרווין (3)
רשת-LAGO-מסך-360-מעלות-לאירועים-עסקיים-צילום-יחצ-_5_
מתחם האירועים LAGO בראשון לציון - צילום יחצ (37)
אולם
15722pic29
15509pica6

שתפו את הכתבה

הכתבות החמות

עודד טהורי צילמה אפרת קופר
דלית וינטראוב מנהלת שיווק עמינח צילום טל טרי
מייסדות סמייל (1)